相对湿度越高,粘附的越难去掉,宁德手术室净化,但当相对湿度低于30%时,又由于静电力的作用使粒子也容易吸附于表面,同时大量半导体器件容易发生击穿。对于硅片生产佳湿度范围为35—45%。
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