相对湿度越高,粘附的越难去掉,实验室净化工程,但当相对湿度低于30%时,实验室净化工程,又由于静电力的作用使粒子也容易吸附于表面,同时大量半导体器件容易发生击穿。对于硅片生产佳湿度范围为35—45%。
洁净车间是现代化企业生产环境的重要部分,它不仅关系到产品的品质、企业的形象,还直接影响到员工和客户的生产和生活。因此,对于洁净车间的设计要求也越来越高。
不过对室内气流速度也有如下要求;(1)送风口出口气流速度不宜太大,和单纯空调房间相比,要求速度衰减更快,扩散角度。(2)吹过水平面的气流速度(例如侧送时回流速度)不宜太大,以免吹起表面微粒重返气流,而造成再污染,这一速度一般不宜大干0.2m/s。
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